«УК «РОСНАНО»

Оценка акций ЗАО «Научное и технологическое оборудование» — «ATC — Semiconduktor technologies & Equipment».

Закрытое акционерное общество «Научное и технологическое оборудование» (далее ЗАО «НТО») было образовано в 2001 г., основным направлением деятельности является разработка и производство сверхвысоковакуумного и вакуумного технологического оборудования: установок молекулярно-лучевой эпитаксии, вакуумного и сверхвысоковакуумного оборудования планарных технологий. В области установок молекулярно-лучевой эпитаксии компания НТО является единственной в России, и ее продукция по техническим характеристикам находится на уровне или превышает зарубежные аналоги крупных международных компаний.

Заказчик:

Роснано Общество с ограниченной ответственностью  «УК «РОСНАНО».

Цель оценки:

Расширение производства, организация и обеспечение систематических продаж на внутреннем рынке РФ и на экспорт наиболее готовой к коммерциализации продукции группы компаний SеmiTEq в части технологического высоковакуумного и сверхвысоковакуумного оборудования производства ЗАО «НТО» и сопутствующих технологий, а также вновь разработанных сопутствующих технологий и оборудования. Стоит отметить, что продукция SemiTEq обладает техническими характеристиками, соответствующими мировым стандартам, а ключевые исполнители проекта являются командой профессионалов с многолетним стажем.

Специфика производства вакуумно-технологического оборудования заключается в том, что подавляющая часть металлоконструкций изготавливается вне предприятия, на заказ, по конструкторской документации, разработанной в ЗАО «НТО». На собственном производстве изготавливаются только уникальные функциональные узлы. ЗАО «НТО» имеет собственную оригинальную технологию изготовления криопанелей, включая специальные методы создания надёжных с точки зрения многократного термоциклирования сварочных швов. Похожим образом, с значительным использованием производственного аутсорсинга, организовано производство аналогичного оборудования в зарубежных компаниях (например, фирма Riber, Франция).

Описание оценённого оборудования:

В настоящее время ЗАО «НТО» осуществляет выпуск 5-ти указанных ниже линий продукции:

  • Установки молекулярно-лучевой эпитаксии для классических полупроводниковых соединений А3В5, широкозонных полупроводниковых соединений А2В6, нитридов III группы
  • Установки планарного цикла, включая
  • Установки плазмохимического травления и нанесения
  • Установки электронно-лучевого напыления различных модификаций
  • Установки магнетронного распыления
  • Установки быстрого термического отжига
  • Комплексный продукт «Нанолаборатория»

Общее число моделей выпускаемого технологического оборудования составляет более 15, в число которых входит 5 основных моделей установок МЛЭ и более 10 установок планарных технологий в различном исполнении. В основном установки ориентированы на научные исследования и разработки (R&D), а также на мелкосерийный выпуск продукции.

Установки молекулярно-лучевой эпитаксии.
Трехкамерная установка МЛЭ STE3N3  разработана с учетом специфики роста материалов A3N и обеспечивает чрезвычайно широкий технологический диапазон доступных ростовых параметров. Благодаря заложенным возможностям STE3N3 обеспечивает эффективное проведение фундаментальных и прикладных научных исследований, опытно-конструкторских работ, а также постановку пилотного производства эпитаксиальных структур на основе нитридов.

Установки плазмохимического травления и нанесения диэлектриков.
Установка STE RIE84 является упрощенным вариантом установки для травления полупроводниковых, диэлектрических или металлических слоев в плазме емкостного разряда. STE RIE84 предназначена, прежде всего, для проведения эффективных лабораторных исследований и разработок. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 150 мм либо 3 образца диаметром 2”. Загрузка осуществляется вручную через бокс с инертной атмосферой. Обрабатываемые пластины укладываются на водоохлаждаемый RIE-электрод, что позволяет реализовать режим реактивного ионного травления. Для лучшего обеспечения теплопередачи между пластиной и поверхностью электрода предусмотрено гелиевое охлаждение.

Установки электронно-лучевого напыления.
Установка STE EB48 является специально разработанной системой электронно-лучевого напыления упрощенной конфигурации для проведения стартовых исследовательских работ по выбору и оптимизации многослойных тонкопленочных покрытий, наносимых на полупроводниковые пластины методом электронно-лучевого испарения в высоком или сверхвысоком вакууме. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины: 150 мм.

Установки магнетронного распыления.
Установка STE MS105 в настоящий момент разрабатывается для проведения процессов осаждения покрытий в вакууме тремя классическими способами:

  • метод термического испарения
  • метод электронно-лучевого испарения
  • метод магнетронного распыления.

Уникальность конфигурации заключается в возможности использования всех трёх методов одновременно. Благодаря гибкой конфигурации и специально разработанной конструкции нагревателя установка STE MS105 позволяет проводить процессы роста многокомпонентных оксидов при температуре на подложке до 900˚С используя магнетронные мишени в качестве источников материалов.

Установки быстрого термического отжига.
Установка STE RTA79 предназначена для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде и ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск  продукции в составе пилотной производственно-технологической  линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 100 мм. Пластина (образец) загружается в камеру вручную через боковой фланец быстрого доступа и устанавливается  на тепловыравнивающий столик из пиролитического графита,  под которым находится нагреватель на основе системы линейных галогеновых ламп. Конструкция установки позволяет проводить сравнительно кратковременные процессы с температурой до 900°С и максимальной скоростью достижения заданной температуры до 40°С/сек. Продолжительность процесса отжига при максимальной температуре составляет до 10 минут. Камера из нержавеющей стали герметична и имеет интегрированное водяное охлаждение стенок. Для наблюдения за процессом отжига в ней предусмотрено кварцевое смотровое окно (используется также для установки ИК-пирометра).

Комплексный продукт «Нанолаборатория».
«Нанолаборатория» — это гибкое по конфигурации комплексное решение по оснащению технологической R&D линии полным комплексом оборудования и базовыми технологическими процессами, необходимыми для выполнения той или иной задачи в области разработки и прототипирования приборов современной нано- и оптоэлектроники. Предназначена  для выполнения широкого класса научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ в области создания перспективных гетероструктурных полупроводниковых приборов, а также обучения молодых специалистов проведению технологических процессов в области полупроводниковых нанотехнологий на современном уровне с помощью специально разработанного интерактивного обучающего программного обеспечения.

Оставьте заявку
на бесплатную консультацию
* - обязательны для заполнения
Сообщение отправлено